euv光刻机原理

首页 / 图说社会 / 问答 | 2022-08-09 14:13:43 点击:0

euv光刻机原理是接近或接触式光刻通过无限靠近，复制掩模板上的图案；直写式光刻是将光束聚焦为一点，通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工。投影式光刻因其高效率、无损伤的优点，是集成电路主流光刻技术。

光刻机（Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact aligner，**时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的**图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造。

不要说对不起，爱情没有对错不需要抱歉，只要日后提起彼此，不要恶语相向还能微笑着说他很好。

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