制作芯片的机器称为光刻机(Mask Aligner),又名掩模对准**机、**系统、光刻系统等,是制造芯片的核心装备。采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的**印制到硅片上。
高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。**品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),**Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和**Canon三大品牌为主。
位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机,形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机,分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、**MYCRO NXQ4006、以及**品牌。
夏末初秋时,枯叶飘零夜,电脑前消磨寂寞,网游中寄情忘情。
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