光刻胶是什么
首页 / 科技 / 数码 | 2022-06-18 18:47:45 点击:0
光刻胶是又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光**的混合液体。
在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层**、显影后，**部分被溶解，未**部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果**部分被保留下来，而未**被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按**光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。
光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。
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